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專利號:200810132725
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無氰電鍍鎘鈦用鈦鹽的制備方法

本發明無氰電鍍鎘鈦用鈦鹽的制備方法屬于表面處理技術,涉及無氰電鍍鎘鈦工藝中主要成分鈦鹽的制備方法。其特征在于,制備的步驟如下:藥品準備;制備鈦鹽。本發明能配制出高質量的無氰電鍍鎘鈦技術所需要的鈦鹽,滿足了無氰電鍍鎘鈦技術的要求,便于無氰電鍍鎘鈦技術的推廣。

無氰電鍍鎘鈦用鈦鹽的制備方法

無氰電鍍鎘鈦用鈦鹽的制備方法,其特征在于,制備的步驟如下:    1.1、藥品準備;    硫酸氧鈦(TiSO↓[4]·2H↓[2]O)  工業級;    偏鈦酸(H↓[2]TiO↓[3]) 工業級;    鹽酸(比重1.19)  化學純;    硫酸(比重1.84)  工業級;    氨水(1∶1)  化學純;    1.2、制備鈦鹽;    1.2.1、制備硫酸氧鈦水溶液;稱取不小于500克的硫酸氧鈦放入容器中,加入3~4倍重量的去離子水,充分攪拌澄清后得到無色透明硫酸氧鈦水溶液,過濾后測量溶液的含鈦量,然后存放在干凈的密閉的玻璃瓶內備用;    1.2.2、制備氫氧化鈦;按無氰電鍍鎘鈦槽液配方所需要的金屬鈦含量,計算出所需要的硫酸氧鈦溶液量,量取所需要的硫酸氧鈦溶液,將其放在一個容器內,加入3~5倍的去離子水稀釋,然后用1∶1的氨水緩慢地加入到硫酸氧鈦水溶液中,邊加邊攪拌,這時便有白色氫氧化鈦沉淀產生,反應過程中的溫度控制在0~10℃,加入氨水時,經常用pH試紙測定pH值,當pH值達到7~8時停止加氨水,通過過濾得到氫氧化鈦沉淀;    1.2.3、提純氫氧化鈦沉淀;將制成的氫氧化鈦沉淀,采用虹吸方法用大量去離子水清洗,直到濾去硫酸根離子,直到在清洗水中滴加氯化鋇溶液不產生沉淀為止,然后用濾布將氫氧化鈦沉淀過濾、擠干;    1.2.4、測量氫氧化鈦沉淀的鈦含量;要求氫氧化鈦沉淀中的鈦含量不低于1.0%,分析方法按HB5421進行;    1.2.5、向制成的氫氧化鈦沉淀中加入鹽酸;將步驟1.2.3得到的氫氧化鈦用化學純鹽酸溶解,鹽酸的比重為1.19,鹽酸加入量為氫氧化鈦沉淀重量的10%±1%,加入鹽酸后,待溶液全部澄清后,經過濾,加入無氰電鍍鎘鈦槽液中。
 


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專利號: 200810132725
申請日: 2008年7月11日
公開/公告日: 2008年11月19日
授權公告日:
申請人/專利權人: 哈爾濱飛機工業集團有限責任公司
國家/省市: 哈爾濱(93)
郵編: 150066
發明/設計人: 于四龍、李連軍、萬杰、王朝琳、張巖
代理人: 梁瑞林
專利代理機構: 航空航天工業部航空專利事務所(11008)
專利代理機構地址: 北京市和平里小關東里14號(100029)
專利類型: 發明
公開號: 101307476
公告日:
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公告號: 000000000
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